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反射式空間光調(diào)制器

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海羽宸光電科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/5/7 12:22:48
  • 訪問(wèn)次數(shù)25
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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    上海羽宸光電科技有限公司是專業(yè)從事光電相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)與科研、生產(chǎn)等環(huán)節(jié)密切相關(guān)的儀器設(shè)備代理與系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)的綜合性服務(wù)商,目前我們代理的國(guó)內(nèi)外光電儀器、設(shè)備及系統(tǒng)生產(chǎn)商共約60家,產(chǎn)品內(nèi)容豐富,均為各自領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)產(chǎn)品。我們的用戶范圍已經(jīng)覆蓋各高校、所屬各研究所、各研究所、航空工業(yè)總公司各研究所、光電產(chǎn)業(yè)等不同領(lǐng)域。我們不僅為用戶提供國(guó)外原廠生產(chǎn)的各類標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,而且我們非常愿意根據(jù)用戶的具體要求,提供完整的系統(tǒng)解決方案,包括集成、設(shè)計(jì)等。

    我們擁有一批具備豐富專業(yè)知識(shí)的銷售人員,并在銷售過(guò)程中向各個(gè)領(lǐng)域內(nèi)的用戶學(xué)習(xí)新知識(shí),保持對(duì)各應(yīng)用領(lǐng)域研究動(dòng)向的了解,從而能夠結(jié)合我們的經(jīng)驗(yàn)和儀器設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn),按照廣大用戶的不同應(yīng)用要求,提供準(zhǔn)確、*的各種儀器或系統(tǒng)解決方案。我們的技術(shù)支持部門在長(zhǎng)達(dá)十幾年的用戶服務(wù)工作中積累了豐富的儀器按裝、調(diào)試及故障解決經(jīng)驗(yàn),并不斷結(jié)合科研生產(chǎn)儀器設(shè)備的發(fā)展及用戶的要求,努力完善售后服務(wù)體系,力爭(zhēng)做到在最短的時(shí)間內(nèi)為用戶提供迅速有效的技術(shù)響應(yīng),使用戶的各種技術(shù)服務(wù)要求盡量得到滿足。       

                      

反射式空間光調(diào)制器 產(chǎn)品信息

反射空間光調(diào)制器

1. XY反射空間光調(diào)制器

Meadowlark’s XY系列空間光調(diào)節(jié)器(SLMs)設(shè)計(jì)的多功能性和易用性,非常適用于典型光學(xué)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。Meadowlark制造和銷售液晶空間光調(diào)制器在各種光電應(yīng)用程序,并非是使用現(xiàn)成的顯示,我們?cè)O(shè)計(jì)了多個(gè)SLMs專門為這些應(yīng)用程序。這種定制設(shè)計(jì)方法使我們能夠提供進(jìn)行了優(yōu)化的用于光子學(xué)應(yīng)用程序的產(chǎn)品。制造工藝開發(fā)產(chǎn)生光學(xué)平面設(shè)備,能從可見到近紅外(NIR)波長(zhǎng)的可調(diào)諧性。

主要特點(diǎn):

·相位/振幅/聯(lián)合

·高速相位調(diào)制(高達(dá)500Hz)

·高效率 (95%)

·低相位波動(dòng)

·最小的串?dāng)_

·高的光學(xué)分辨率

詳細(xì)規(guī)格:(選型向?qū)В?/FONT>

2. 線性空間光調(diào)制器

相位和振幅 - 1 x 12,288

Meadowlark XY向列系列偏振獨(dú)立空間光調(diào)制器(PI SLMs)設(shè)計(jì)的多功能性和易用性,非常適用于典型光學(xué)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。XY向列系列PI SLMs優(yōu)化提供一個(gè)全波(2π)相位在幾個(gè)通用設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的反射。這些SLMs提供無(wú)論輸入光源的偏振狀態(tài)的相位調(diào)制。SLMs操作在兩個(gè)反射,(液晶在硅基(硅晶))和透射的(glass-on-glass)模式。1 x12,288是基于我們的反光LCoS技術(shù)。

主要特點(diǎn):

·高光效率

·沒(méi)有機(jī)械運(yùn)動(dòng)

·高速相位控制

·安全、低電壓操作

·用戶友好的圖形界面

Specifications - Linear Series Spatial Light Modulator

Array Size

19.66 x 19.66 mm

Design Wavelength (nominal)

532—1550 nm
(specify wavelength, λ in nm
when ordering)

Diffraction Efficiency (zero-order)

80-95% (maximum)

Duty Cycle

Up to 99%

External Window1

Broadband antireflection coated for
Ravg <1.25% (450-865 nm, 600-1300 nm

or 850-1650 nm)

Fill Factor

99%

Format

1 x 12,288
(12,288 active pixels)

Mode

Reflective

Steering Angle

± 4-7°

Modulation

Controllable index of refraction

Phase Levels (resolvable)

50 - 100 linear levels
(min.) for 2π phase stroke

Phase Stroke (double-pass)

Typically 2π at user-specified
laser line (up to 6π available)

Pixel Pitch

1.6 μm

Reflected Wavefront Distortion (rms)2

λ/3

Response Time3

5-30 ms

Spatial Resolution

TBD

Switching Frequency3

30-200 Hz

1. Custom antireflection coating options are also available, including V-type for optimum optical efficiency at a single laser wavelength.
2. At nominal wavelength.
3. Phase stroke, temperature, and wavelength dependent.

3. OverDrive Plus (ODP)

OverDrive Plus (ODP)是一種全新技術(shù),從 Boulder 非線性系統(tǒng)(BNS)專門為Meadowlark 光學(xué)反射空間光調(diào)制器(SLMs)設(shè)計(jì)。當(dāng)使用我們的 SLMs ODP時(shí),連續(xù)全息圖之間的相變時(shí)間將大大減少。使用ODP顯示降低2 - 8 x 標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)響應(yīng)時(shí)間。這個(gè)響應(yīng)時(shí)間減少歸功于三個(gè)獨(dú)立的技術(shù)開發(fā)集成在一起的組合產(chǎn)品: Transient Nematic Effects, Phase Wrapping and Regional Look‐up‐ ables。

主要特點(diǎn):

·更快的響應(yīng)時(shí)間通過(guò)瞬態(tài)向列的影響,相位纏繞,區(qū)域校準(zhǔn)。

·通過(guò)軟件啟用/禁用ODP的能力。

·利用GPU通過(guò)OpenCL減少計(jì)算的時(shí)間中間全息圖。

·提前計(jì)算中間全息圖幀速率更快的能力。

·區(qū)域標(biāo)定程序256 x 256和512 x 512像素SLMs使像素水平LUTS和校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。

詳細(xì)規(guī)格:

Specifications - OverDrive Plus Spatial Light Modulator

Design Wavelength

λ = 1064 nm

Array Size

7.68 x 7.68 mm

Zero-Order Diffraction Efficiency (Standard)

61.5% (maximum)

External Window

BBAR coated for Ravg < 1.25%

Fill Factor

0.834

Format

512 x 512 (262,144 active pixels)

Phase Stroke (Double Pass)

Pixel Pitch

15 x 15 μm

Phase Ripple

As low as 0.1%, based on SLM

configuration

Reflected Wavefront Distortion (Calibrated)

λ/10 @ 1064 nm

Liquid Crystal Response Time, 10‐90% (Standard)

≤ 66.7 ms

Liquid Crystal Response Time, 10‐90% (High-Speed)

≤ 10 ms

Liquid Crystal Response Time, 10‐90% (OverDrive Plus)

≤ 1 ‐ 4 ms

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  • 其他
以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

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