UV光催化氧化除臭設備無需惡臭氣體進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及藥劑參與處理，光催化氧化除臭設備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護，只需要作定期檢查維護，維護和能耗成本低，風阻極低，設備在運行過程中，會瞬間產生大量的強刺激性UV光線，嚴禁人員眼睛或皮膚鐘暴露在光源中，需在有安全防護措施的情況下視察。
UV光催化氧化除臭設備特點：
1、性：光催化氧化除臭設備能去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達99%，遠超過惡臭污染物排放標(GB14554-93)。
2、無需預處理：光催化氧化除臭設備惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，除臭設備工作環境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在30%-98%、PH指在3-11之間均可正常工作。
3、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過光催化廢氣處理設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。
4、運行成本低：光催化除臭設備去任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需定期檢查，本設備能耗低，(每處理廢氣風量為1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能)，設備風阻極低<100pa。
5、光解作用：UV-C紫外線C波段(254nm)光束輻射小顆粒分子(由氨基酸組成的蛋白質分子，由脂肪酸組成的脂肪分子，由糖組成的淀粉分子，還有維生素分子、礦物質分子)將油脂分子鏈切斷，改變油脂的分子結構揮發性有機物易受UV-C的攻擊。
6、氧化作用：UV-C紫外線C波段(185nm)在工作時與空氣中的氧氣反應生成臭氧。臭氧是一種強氧化劑，對氣體中的醇類、酯類、酮類、醛類、醚類、苯類等分子*氧化分解成如水蒸氣和二氧化碳等無害的化合物。臭氧和OH同有機化合物反應并改變它們。
