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苝四甲酸二酐-氨基酸插層二維納米復合材料

西安齊岳生物科技有限公司供應光電材料，納米材料，聚合物；化學試劑，產品，接受定制；供應BiOX/GO/MOF-5三元復合物
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苝四甲酸二酐-氨基酸插層二維納米復合材料產品描述：

二維納米復合材料表現出了特電化學性質和大比表面積等,其層內的原子與原子之間由共價鍵連接而成,而層間的原子與原子則靠范德華力相互作用,由于其層內與層間的作用力的不同,導致了性質有的差異,具有許多特的性能,被用于催化、化學傳感、能量存儲等領域。二維納米復合材料的制備方法主要分為自上而下的剝離法和自下而上的合成法,其中聲液相剝離法具有操作簡單、成本低、綠色等特點。以氧化石墨烯(Go)、二硫化鉬(MoS_2)、g-C_3N_4為基體,采用聲液相剝離的方法,利用苝四甲酸二酐-氨基酸這種具有大π鍵的有機分子作為插層劑,制備得到了一系列二維納米復合材料,并研究了其相關性能,主要研究內容如下:1、以氧化石墨烯為基體,采用聲液相剝離法,利用苝四甲酸二酐-丙氨酸(NAPD)、苝四甲酸二酐-苯丙氨酸(NPPD)和苝四甲酸二酐-(NTPD)等3種有機分子為分散相插層制備二維納米復合材料。原子力顯微鏡(AFM)表征表明,已成功制備出厚度在1.588nm的納米片,同時進一步利用掃描電鏡(SEM)、傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)以及X射線衍射(XRD)等對其形貌、結構進行表征,后對該類二維納米復合材料的相關性質做進一步研究。2、以MoS_2為基體,采用聲液相剝離法,利用苝四甲酸二酐-丙氨酸(NAPD)、苝四甲酸二酐-苯丙氨酸(NPPD)、苝四甲酸二酐-(NTPD)和苝四甲酸二酐-天冬氨酸(NAAPD)等4種有機分子為分散相插層制備二維納米復合材料。原子力顯微鏡(AFM)表征表明,已成功制備出厚度在1.819 nm的納米片,同時進一步利用掃描電鏡(SEM)、傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)以及X射線衍射(XRD)等對其形貌、結構進行表征,后對該類二維納米復合材料的性質做進一步研究。3、以g-C_3N_4為基體,采用聲液相剝離法,利用苝四甲酸二酐-丙氨酸(NAPD)、苝四甲酸二酐-苯丙氨酸(NPPD)、苝四甲酸二酐-(NTPD)和苝四甲酸二酐-天冬氨酸(NAAPD)等4種有機分子為分散相插層制備二維納米復合材料。原子力顯微鏡(AFM)表征表明,已成功制備出厚度在2.512 nm的納米片,同時進一步利用掃描電鏡(SEM)、傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)以及X射線衍射(XRD)等對其形貌、結構進行表征,后對該類二維納米復合材料的性質做進一步研究,結果表明,苝四甲酸二酐-丙氨酸插層制備的g-C_3N_4/NAPD二維納米復合材料具有的催化析氫。